西安伊福技术有限公司

001.含固体催化剂的CMP淤浆
002.制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
003.用于低介电常数材料的氧化抛光淤浆
004.抛光组合物和抛光方法
005.抛光浆料
006.用于研磨的无机氧化物颗粒淤浆及调节所述颗粒的磨蚀性的方法
007.抛光组合物及使用它的抛光方法
008.硬质表面处理剂、防污处理剂及表面处理方法
009.抛光剂组合物
010.抛光剂组合物
011.抛光剂组合物
012.在二氧化硅化学机械抛光过程中减少/消除划痕和缺陷的组合物和方法
013.一种家具护理剂及其制造
014.金属擦亮剂
015.用于金属和电介质结构化学机械抛光的抛光膏
016.抛光存储器硬盘用基片的抛光组合物及抛光方法
017.含有高分子树脂的喷雾型汽车清洁光亮软蜡组合物
018.化学机械法抛光二氧化硅薄膜用抛光膏
019.用于SiO2隔离层化学－机械抛光的酸性抛光膏
020.含氢氟酸的铝型材酸性抛光剂
021.抛光组合物及使用它的抛光方法
022.含硅烷改性研磨颗粒的化学机械抛光(CMP)组合物
023.抛光系统及其使用方法
024.化学机械抛光系统及其使用方法
025.含有阻化化合物的抛光系统及其使用方法
026.用于存储器硬盘磁头表面抛光的抛光组合物及其抛光方法
027.含有机添加剂的钽障壁浆液
028.介电质CMP浆液中CsOH的应用
029.抛光组合物
030.不用磨料泥浆的玻璃抛光材料及其使用方法
031.木质地板、家具护理剂及其制备方法
032.平整表面的组合物及方法
033.一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料
034.抛光剂和生产平面层的方法
035.一种纤维砂轮磨削液及其用途
036.用含氨基酸的组合物研磨内存或硬盘的方法
037.用于优先除去氧化硅的系统
038.磁盘基材的抛光组合物和使用该组合物的抛光方法
039.丙烯海松酸二缩水甘油酯及其环氧树脂和它们的制法
040.超大规模集成电路多层铜布线化学机械全局平面化抛光液
041.抛光组合物及使用它的抛光方法
042.平整表面的组合物及方法
043.抛光组合物
044.金属和金属/电介质结构的化学机械抛光用组合物
045.用于金属的化学机械抛光浆液及利用该浆液制备半导体装置的金属线接
触插头的方...
046.金属CMP用的抛光组合物
047.研磨无机氧化物颗粒的浆液以及含铜表面的抛光方法
048.化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法
049.用于CMP的含硅烷的抛光组合物
050.铜化学－机械抛光工艺用抛光液
051.一种墙面抛光防污蜡的制作方法
052.使皮革产生柔韧性能和自然光泽的液体鞋油
053.失效稀土抛光粉的再生方法
054.氧化铈淤浆和制造基材的方法
055.超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
056.化学/机械抛光浆和使用它的化学机械抛光方法
057.化学抛光液
058.稀土抛光粉的制备方法
059.用于化学机械抛光的淤浆
060.硅藻土磨料抛光剂的制备方法
061.抛光组合物中有机硅表面活性剂的使用
062.用于化学机械抛光的水分散体及用途
063.无水洁车蜡液
064.皮鞋翻新保养液
065.用于抛光铜基金属的浆
066.抛光组合物
067.一种不锈钢制品的化学抛光剂及其工艺
068.化学机械抛光组合物及其相关方法
069.抛光组合物的用途和抛光存储器硬盘的方法
070.表面处理组合物及其用途
071.抛光液组合物
072.一种石材镜面效果抛光膏的制作方法
073.含固体催化剂的化学机械抛光的抛光垫
074.用于金属的化学机械抛光（CMP）的浆料及其使用
075.CMP用料浆以及制造半导体器件的方法
076.木质油精地板、家俱上光保护剂及其制造工艺
077.抛光组合物
078.一种多用途汽车清洗覆膜高光保养剂
079.添加剂组合物、含有该添加剂组合物的淤浆组合物及使用该淤浆组合物
抛光物体的...
080.涂饰面的双液性保护上光剂
081.一种石材上光蜡及其生产方法
082.抛光组合物
083.硅石基淤浆
084.抛光组合物
085.抛光组合物
086.稀土盐/氧化剂为基础的化学机械抛光方法
087.一种水基纳米金刚石抛光液及其制造方法
088.抛光组合物
089.一种无水洗车亮洁剂及其制备方法
090.微混晶防护蜡及其制备方法和用途
091.真皮护理霜
092.自动餐具清洗机用光亮剂
093.抛光组合物
094.含硼抛光系统及方法
095.家具上光剂组合物
096.降低半导体晶片磨蚀的化学机械磨平组合物
097.多功能去污亮光乳液
098.用于汽车外壳去污上光的组合物及其制备方法
099.对包含金属的表面采用卤素和卤化物盐类的平面化方法
100.用于半导体晶片的抛光组合物
101.用于抛光半导体层的组合物
102.含碱金属的抛光系统及方法
103.抛光组合物
104.抛光垫
105.阻挡层抛光流体
106.硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
107.用于CMP的浆料、抛光方法及半导体器件的制造方法
108.高速阻挡层抛光组合物
109.抛光组合物
110.用于金属化学机械抛光的新型浆料
111.利用含胺聚合物的CMP系统和方法
112.一种化学机械抛光液
113.一种汽车干洗上光液及其制造方法
114.钨抛光溶液
115.抛光组合物和抛光方法
116.CMP浆料、抛光方法和半导体器件的制造方法
117.一种核壳结构的水性磨光油
118.硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用
119.金属基板化学机械抛光方法
120.用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法
121.抛光组合物和抛光方法
122.浆料成分及利用其的CMP方法
123.用于镍/磷合金的CMP配方
124.用于铜的受控抛光的组合物和方法
125.研磨基材的方法及组合物
126.附着在固体上并用于增强CMP配方的形成自由基的活化剂
127.含甲醇的二氧化硅基CMP组合物
128.用于抛光铜的组合物和方法
129.亲水化蜡组合物
130.用于CMP的经正电性聚电解质处理的阴离子性研磨颗粒
131.抛光组合物和抛光方法
132.一种用于存储器硬盘磁头超精研磨的研磨油
133.低K介电材料的化学机械抛光方法
134.抛光组合物和抛光方法
135.含导电聚合物的抛光组合物
136.木质地板、家具护理用的抛光剂组合物
137.地板用水合树脂分散体以及使用这种水合树脂分散体的地板抛光组合物
138.减少在化学机械法平面化过程中的表面凹陷和磨蚀的方法
139.用于钨和钛的化学机械平坦化的组合物及方法
140.纳米鞋油
141.皮革、石材增光保护剂
142.用于替换介质内容物的装置和方法
143.易擦亮皮革护理膜片
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